Vad betyder kemisk ångdeposition (CVD)?
Kemisk ångdeposition (CVD) är bildandet av en icke-flyktig fast film på ett substrat på grund av ångreaktionen -fas kemiska reaktanter. CVD är en atmosfärskontrollerad process som utförs vid förhöjda temperaturer på cirka 1925°F (1051°C) i en CVD-reaktor.
CVD används för att skapa beläggningar för en mängd olika applikationer såsom slitstyrka, korrosionsbeständighet, högtemperaturskydd, erosionsskydd och kombinationer därav.
Kunskaper.se förklarar kemisk ångavsättning (CVD)
En grundläggande CVD-process består av följande steg:
- En blandning av reaktantgaser och utspädande inerta gaser införs i reaktionskammaren.
- Gasen rör sig till substratet.
- Reaktanterna adsorberas på substratets yta.
Reaktanterna genomgår kemiska reaktioner med substratet för att bilda filmen.De gasformiga biprodukterna från reaktionerna desorberas och evakueras från reaktionskammaren. )Kemiska ångavsättningsbeläggningar är finkorniga, ogenomträngliga, har hög renhet och är hårdare än liknande material som tillverkas med konventionella keramiska tillverkningsprocesser.
Denna process är mycket mångsidig som kan användas används på produkter som kan vara svåra att belägga med andra metoder. Det används vanligtvis för att skydda elektroniska komponenter, såsom integrerade kretsar, mot korrosion.
